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作为Allresis GmbH中文平台,我们在中国大陆、香港及澳门独家销售用紫外光刻和电子束光刻的光刻胶产品,以及配套使用的工艺化学品,用于制造电子器件。我们产品的特点紧跟客户需求来开发。基于我们的专业知识和高度的灵活性,我们能够在短时间内经济有效地生产出适用的光刻胶产品。

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最新光刻百科

微电子刻蚀技术的发展(Matthias Schirmer)

由于自1990年代以来光刻技术的快速发展,此处仅简要介绍了不同的技术和应用。有关每章中提供的大量事实,技术和程序的深入信息,请参考添加的参考资料。

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最新新闻

Allresist 30周年庆

8月26日Allresist全体员工在德国总部举行了庆祝活动。Allresist成立于1992年,座落于临近柏林的施特劳斯贝格(Strausberg),专业从事光刻工艺所需电子化学品的研发、生产和销售。

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本月最新光刻胶

2020年7月:底部抵抗AR-BR 5400,这是两层工艺的“主力”

2004年,与智能系统中心(CiS,爱尔福特)合作开发了第一个光刻胶底胶(BR)。该底胶是非光敏的并且可以以碱性水溶液方式显影。

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