作为Allresis GmbH中文平台，我们在中国大陆、香港及澳门独家销售用紫外光刻和电子束光刻的光刻胶产品，以及配套使用的工艺化学品，用于制造电子器件。我们产品的特点紧跟客户需求来开发。基于我们的专业知识和高度的灵活性，我们能够在短时间内经济有效地生产出适用的光刻胶产品。
在这里，您可以找到Allresist的产品资料、材料安全数据、产品性能简介，您也可以访问我们的光刻胶百科获得光刻胶使用过程中的基本知识和技巧。您还可以通过这这个平台联系我们获得支持！
由于自1990年代以来光刻技术的快速发展，此处仅简要介绍了不同的技术和应用。有关每章中提供的大量事实，技术和程序的深入信息，请参考添加的参考资料。
8月26日Allresist全体员工在德国总部举行了庆祝活动。Allresist成立于1992年，座落于临近柏林的施特劳斯贝格（Strausberg），专业从事光刻工艺所需电子化学品的研发、生产和销售。
2020年7月：底部抵抗AR-BR 5400，这是两层工艺的“主力”
2004年，与智能系统中心（CiS，爱尔福特）合作开发了第一个光刻胶底胶（BR）。该底胶是非光敏的并且可以以碱性水溶液方式显影。
您将找到有关光刻技术以及光刻胶技术问题的高质量答案。
光刻知识库是有关当前微电子技术的知识平台。
我们的研发不断为您提供进一步的信息。
忠实可靠的Allresist产品！2003年，当我们建立了新的洁净室时，我们在技术出现问题的任何时候都会得到快速的帮助。良好的均匀性和按时交付我们每年300升的光刻胶，可为我们保证一流的产品质量和高效的工艺流程。
在研究中，需要高灵活性的光刻胶产品以及出色的专业技术咨询服务。我们在Allresist方面都经历过，特别是在电子束负胶AR-N 7520的使用方面。
公平公正的合作对我们至关重要。因此，我们一直使用新型的PMMA电子束抗光刻胶，Allresist的产品一直处于可靠的状态。
有了Allresist的AR-P 3110光刻胶，我们从一开始就进展很顺利。因此，我们向德累斯顿芯片学院的业务合作伙伴推荐了这种光刻胶
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自1992年以来，我们以适中的价格为客户提供高质量的产品。得益于高效的研究部门和我们对客户需求的密切沟通，我们可以快速响应市场需求并持续提供创新性的产品。
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