双层剥离胶体系 – AR-P 617/AR-P 8100

基于苯甲醚溶剂的 PPA 胶可以涂覆在 PMMA co MA (AR-P 617)胶上。在这种情况下,两层胶叠加起来不会发生混合,这是实现 双层或者三层胶体系的决定性先决条件。

图 1:PPA(顶层)和AR-P 617(底层)构成的双层胶体系示意图

图2: 底切结构随显影时间增加而变化的示意图

涂胶和前烘后,用热探针 (NanoFrazor) 扫描上层胶层 (PPA)。针尖扫描过的区域 PPA 都会蒸发,从而获得所需的图形结构。在随后的工艺过程中,首先需要用溶剂混合物各向同性地溶解下层胶,从而获得底切结构。显影步骤的持续时间和显影温度都对底切的程度有决定性的影响。因此,通过这些工艺手段可以容易地控制底切的程度。SwissLitho 对该胶体系进行了首次试验。图 2 显示底部AR-P 617 的底切程度随着显影时间的变化趋势,图 3 双层胶结构(顶层 PPA以及底层 AR-P 617)。

随后,进行金属镀膜工艺。剥离后仅保留金属结构。然而,由于各向同性显影,该过程在其分辨率特性方面受到限制。到目前为止,可以实现的最佳分辨率为 30 nm 的金属结构:

图3: AR-P 617底切结构的形成

图4: 双层胶结构图(顶层:PPA,底层:AR-P 617)

图5: 显影后光刻胶的电极结构

图6: 剥离后金属电极(Ni 50nm厚度)

点击数:13