AR 300-80的粘附性能

为了防止光刻胶(如PMMA) 层从衬底上剥离,强烈建议使用增附剂。在旋涂光刻胶之前,在高温(如果可能 > 200°C)下对衬底进行烘烤处理对提高光刻胶和衬底的粘附性也是有帮助的。理想的烘烤后冷却步骤应在干燥器中快速进行。常用的助粘剂 HMDS(六甲基二硅氮烷)在 PMMA 的情况下仅表现出微弱的粘附效果,而如果使用 AR 300-80,则 PMMA 和衬底的粘附性能会得到显着改善。这种增附剂含有有机硅化合物,通过旋涂方式涂布,然后在 170°C 下烘烤,然后再进行光刻胶的旋涂。

在碱性水溶液中的显影过程中,增附剂 AR 300-80 不会从衬底表面完全去除。在某些情况下,特别是在电镀应用中,表面上残留的二苯基硅烷二醇可能会对后续工艺产生干扰——这可以通过简单的工艺改善来避免。衬底在旋涂增附剂AR 300-80后,然后在至少 180°C 的温度下烘烤。冷却后,用丙酮、乙醇、AR 600-71 或 AR 300-70 简单冲洗衬底并干燥。接触角的测量证实改性表面的促进粘附的疏水特性保持不变。

由于在 180°C 下烘烤,AR 300-80 直接与衬底表面反应,形成高度稳定的 Si-O 键。可以通过用有机溶剂冲洗去除过量的增附剂,同时保留与表面共价结合的单分子层。修饰后的疏水性表面只会在强碱性溶液 (2N NaOH) 被腐蚀掉相反在浓 HCl 和热有机去胶剂中是稳定的。即使将此改性表面经显影液 AR 300-44、AR 300-35 和 AR 300-26 处理 30 分钟,接触角也不会显着降低——疏水表面特性保持不变。

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