Allresist再次以诱人的大型展位和创新产品参加了MNE。

与往年一样,会议参与者对我们多样化的新发展非常感兴趣。然而,绝对的亮点是引入了我们的Medusa 82,它是HSQ光刻胶的绝佳替代品。在演讲中,Tobias Mai博士介绍了以前的结果,这些结果清楚地证明了改进的性能,例如高工艺稳定性,极高的灵敏度增强以及在电子束,EUV和光刻中的可能应用。

随后,来自世界各地的用户询问了美杜莎的可用性。他们印象深刻,可以立即获得初始样品,新产品Medusa 82的功能甚至超过了HSQ的良好性能(高分辨率和蚀刻稳定性)。

我们的其他创新型抗蚀剂,如CSAR 62,Atlas 46,Electra 92和荧光抗蚀剂也引起了极大的兴趣。

我们要感谢所有来访者的关注以及对进一步项目的建议和想法。明年,我们将在希腊罗得岛的MNE 2019上展示我们的进一步发展,并期待您的光临。

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