就像往年一样,Allresist参加了MNE大会并拥有一个醒目的展位。今年的MNE受到座右铭“在荷马的土地上纳米化”的指导,这是我们演讲的绝佳连接点,因为我们的新型电子束抗蚀剂被称为“美杜莎82”。每当希腊神话中的美杜莎看着人类时,他变成了石头。同样,美杜莎抗蚀剂层在辐照下变成石头(SiO2)。

Allresist的董事总经理Matthias Schirmer在演讲中说明了与唯一竞争对手产品HSQ相比,Medusa抵抗剂的优势。我们的抗蚀剂的特点是耐用性好,质量没有损失,加工范围广。使用灰度光刻,Medusa 82可以大大简化衍射光学元件(DOE)的生产。另外,该抗蚀剂适用于EUV光刻。我们很乐意应要求为您汇总所有结果和信息。

我们对于美杜莎(Medusa)的研究结果引起了极大的兴趣,但其他用户开发的诸如CSAR 62,Electra 92和Phoenix 81等抗蚀剂也很有趣。大会的大多数参与者之前已经与至少一位抵抗者合作,并与我们分享了他们的发现。因此,MNE 2019对我们来说是巨大的成功。

我们邀请所有客户和业务合作伙伴参加2020年9月14日至18日在比利时鲁汶举行的跨国企业大会,该会议将由著名的IMEC公司主办。

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