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Allresist再次以诱人的大型展位和创新产品参加了MNE。

与往年一样,会议参与者对我们多样化的新发展非常感兴趣。然而,绝对的亮点是引入了我们的Medusa 82,它是HSQ光刻胶的绝佳替代品。在演讲中,Tobias Mai博士介绍了以前的结果,这些结果清楚地证明了改进的性能,例如高工艺稳定性,极高的灵敏度增强以及在电子束,EUV和光刻中的可能应用。

随后,来自世界各地的用户询问了美杜莎的可用性。他们印象深刻,可以立即获得初始样品,新产品Medusa 82的功能甚至超过了HSQ的良好性能(高分辨率和蚀刻稳定性)。

我们的其他创新型抗蚀剂,如CSAR 62,Atlas 46,Electra 92和荧光抗蚀剂也引起了极大的兴趣。

我们要感谢所有来访者的关注以及对进一步项目的建议和想法。明年,我们将在希腊罗得岛的MNE 2019上展示我们的进一步发展,并期待您的光临。

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Allresist首次参加了“三光束”会议EIPBN 2018。Matthias Schirmer和Christian Kaiser博士在展位上回答了许多询问,特别是有关电子束抗蚀剂的问题。同时,抗拒CSAR 62Electra 92享誉全球。Phoenix 81Atlas 46和Medusa 82现在增加了更多对客户感兴趣的抗蚀剂。

在会议上,还进行了两次备受赞誉的演讲。Christian Kaiser博士介绍了Atlas 46新开发成果,Matthias Schirmer演示了CSAR 62的进一步应用实例。在我们经常光顾的展位上,主要来自美国的许多访客和客户对我们进一步开发电子束抗蚀剂表现出极大的兴趣。CSAR 62和Electra 92的高品质,短交货时间和个性化咨询服务给许多客户留下了特别深刻的印象。

这次会议对Allresist来说是一次完全的成功。这些发展的进一步结果现在将在哥本哈根的MNE 2018大会上发布。

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