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电子束光刻胶问与答

11. 电子束光刻胶膜在溶剂中的耐受性有多高?

FAQ

就所使用的原材料而言,电子束光刻胶分为四种不同的类别:PMMA- 光刻胶 (AR-P 6xx(x),CSAR 62,酚醛树脂基电子束胶 (AR-N/P 7000),Electra 92导电胶。一般情况下,随着烘烤或工艺温度的升高,光刻胶膜的溶解性降低,从而导致去除问题越来越大。在高于 200 °C 的温度下烘烤后,光刻胶在大多数溶剂中呈惰性。只有除胶剂 AR 300-70、300-72 (NMP) 和AR 300-73(TMAH,碱性水溶液)仍会导致薄膜溶胀,并且在某些情况下能够去除胶层。

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2022年3月31日/通过: allresist_cn
https://www.allresist.cn/wp-content/uploads/2021/01/logo_allresist_en-300x110.png 0 0 allresist_cn https://www.allresist.cn/wp-content/uploads/2021/01/logo_allresist_en-300x110.png allresist_cn2022-03-31 17:44:472022-04-01 11:36:3911. 电子束光刻胶膜在溶剂中的耐受性有多高?

10. 电子束光刻胶在强酸下的抗腐蚀性有多高?

FAQ

高浓度氧化性的酸(硫酸、硝酸、王水 1)、食人鱼液 2) ) 在室温下会侵蚀光刻胶,通常被用作难去除光刻胶结构的去胶液。遇到这些试剂,酚醛树脂光刻胶很容易被去除掉, PMMA光刻胶则开始膨胀,然后缓慢去除。用去离子水对氧化酸进行适度稀释,可以减弱这种酸性溶液的侵蚀。相反,即使在高浓度的非氧化性酸(盐酸、氢氟酸)中光刻胶也可完好保存下来。

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https://www.allresist.cn/wp-content/uploads/2021/01/logo_allresist_en-300x110.png 0 0 allresist_cn https://www.allresist.cn/wp-content/uploads/2021/01/logo_allresist_en-300x110.png allresist_cn2022-03-31 17:36:232022-04-01 11:36:4810. 电子束光刻胶在强酸下的抗腐蚀性有多高?

9. 电子束光刻胶的抗等离子体刻蚀性有多高?

FAQ

AR-P  6xx(x)和AR-N/P 7000系列的电子束光刻胶在干法刻蚀工艺(例如氩和CF4)中显示出截然不同的抗刻蚀特性。基于酚醛树脂的电子束光刻胶具有高刻蚀稳定性,而PMMA 明显抗刻蚀性能更差。CSAR 62具有与基于酚醛树脂的电子束光刻胶类似的高刻蚀稳定性。在刻蚀工艺之前,在110 °C下坚膜处理可以使光刻胶分子再次稳定有助于略微增加刻蚀稳定性。光刻胶刻蚀速率高度依赖于各自的条件。除了使用的刻蚀设备(等离子刻蚀机)外,刻蚀速率还受刻蚀气体成分、压力、温度和偏压的影响。

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https://www.allresist.cn/wp-content/uploads/2021/01/logo_allresist_en-300x110.png 0 0 allresist_cn https://www.allresist.cn/wp-content/uploads/2021/01/logo_allresist_en-300x110.png allresist_cn2022-03-31 17:14:292022-04-01 11:36:599. 电子束光刻胶的抗等离子体刻蚀性有多高?

8. 电子束光刻胶能实现多高的分辨率?

FAQ

对于光刻胶可实现的最佳分辨率,纯粹的学术上的分辨率值和工业上可使用的值是两个完全不同的概念。理论上,电子束胶可以实现最佳2 nm的分辨率(高斯束)。使用CSAR62 电子束光刻胶,可以在80 nm的膜厚下实现 6 nm的线条;薄膜厚度为180 nm时分辨率可高达10 nm。

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2022年3月31日/0 评论/通过: allresist_cn
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7. 如何再次去除电子束光刻胶膜?

FAQ

使用极性溶剂可以有效去除在较低温度下烘烤(软烘烤)后的所有电子束光刻胶,例如使用推荐的稀释剂 AR 300-12 或 AR 600-01、600-07 和 600-09,以及除胶剂 AR 600-70(丙酮基)。AR 600-70 也是以去胶为目的最常用的去胶液。

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2022年3月31日/0 评论/通过: allresist_cn
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6. 电子束光刻胶如何选择合适的显影液,显影液浓度和温度等因素对显影结果有何影响?

FAQ

在显影过程中,正胶的胶膜的曝光区域将被去除从而实现图形化。而负胶,未曝光区域被去除从而实现图形化。为了实现可重复的结果,强烈推荐对有机溶剂显影液(AR 600-50,-50,-56) 显影过程的温度应为21-23℃±0.5℃,对水溶性碱显影剂(AR 300-26, -35, -40)显影过程的温度应为21-23℃±0.5℃。显影液AR 600-50:一种溶剂型显影液,专为聚合物电子束胶 (AR-P 617) 设计。使用该显影液,可提高电子束光刻胶的灵敏度。

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5. 电子束光刻胶如何曝光,如何确定最佳曝光剂量?

FAQ

电子束光刻胶在使用波长非常短的电子束曝光设备,可以获得高达 2 nm 的优异分辨率(高斯束)。电子束曝光通常是使用基于高斯束直写或变形束工作原理的传统电子束光刻设备来进行的。
对于AR-N/P 7000 光刻胶产品线,通常也可用于混合光刻工艺,即可以在相应的紫外光谱工作范围内使用 i-、g-线步进投影式光刻机或者接触式曝光机进行额外的曝光。

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4.电子束光刻胶对不同晶圆的粘附性强度有多高?

FAQ

衬底和光刻胶之间的粘附性是紫外光刻胶的一个敏感特征,电子束光刻胶也是如此。相比于与 AR-N/P  7000 产品线来说,电子束光刻胶PMMA、聚合物和苯乙烯丙烯酸酯光刻胶明显不太容易出现粘附差的问题。而电子束胶AR-N/P  7000 产品线在衬底清洗过程或其他参数的很小的变化可能会让光刻胶和衬底的粘附强度产生致命影响。

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2022年3月31日/0 评论/通过: allresist_cn
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3.电子束光刻胶应用中衬底的最佳预处理方法是什么?

FAQ

如果使用新的且干净的衬底(如硅片),在~ 200 °C 下烘烤几分钟就可以有效去除衬底表面的水汽,但随后必须快速进行后续工艺处理。强烈建议暂时存放在干燥器中,以防止样品表面再次吸水。使用过的样品或被有机试剂污染的晶片需要预先进行清洁步骤,例如,在一般情况下,使用丙酮和随后的异丙醇或乙醇处理依次清洗,然后烘烤即可。

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2022年3月30日/通过: allresist_cn
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2.电子束光刻胶能够保存多长时间,最佳存储条件是什么?

FAQ

PMMA,聚合物和苯乙烯丙烯酸酯的光刻胶在可见紫外线范围(>300nm)内不感光;因此,它们不会对白光产生反应(不需要黄光),并且对温度的敏感性远低于基于酚醛树脂的光刻胶。因此,这些光刻胶只会缓慢老化。典型的与时间相关的变化是光刻胶的缓慢增稠,但这种变化对质量没有负面影响。在这种情况下,获得的胶膜往往会稍微厚一些,我们可以在旋涂的过程中轻松进行修正。

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