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显影液百科信息

PMMA co MA（AR-P 617,50kV）的新显影液

X AR 600-50/2 是一种新的、非常灵敏和高选择性的 AR-P 617显影液。即使在较长的显影时间下，暗腐蚀也非常低。PMMA 或 CSAR 62 的层不会受到攻击，这对于多层流程尤其重要。通过显影时间可以很好地调整灵敏度。

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AR-P 617新显影液

我们的高灵敏度电子束光刻胶 AR-P 617 经常用于双层胶工艺，主要与 PMMA 结合使用，用于生产T-gate等剥离结构。通常必须确保两个胶层可以选择性地并且彼此独立地显影。尽管包含 MIBK 的显影液可用于此目的，但由于这些显影液对两个胶层都有腐蚀，因此工艺窗口相对较窄。

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AR-P 5320新显影液

在我们的产品信息中，我们推荐使用显影液 AR 300-26 来显影 AR-P 5320，这是我们用于剥离应用的正性光刻胶。然而，一些用户更喜欢与 MIF 显影液来处理。

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CSAR 62电子束光刻胶（100kV）各种显影液的评估

为了评估各种显影液对 CSAR 62 电子束光刻胶的适用性，Lothar Hahn 博士（卡尔斯鲁厄理工学院 (KIT)，微结构技术研究所）提供了各种在暴 100 kV 电子（剂量变化）曝光后的样品。

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显影工艺流程

显影液旨在去除正胶的曝光区域和负胶的未曝光区域，而不会留下任何残留物。理想情况下，晶圆的各个其他区域不受显影液的侵蚀并且保持与初始值相同的膜厚度。

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联级显影

为了获得得显影液的最佳性能和浸没显影期间高效性，我们推荐使用级联显影。通常我们的显影过程只在一个显影槽中进行。曝光的光刻胶区域完全溶解（对于正胶），聚合物会在这个过程中保留在显影液中，因此也连续消耗显影液。

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CSAR 62（AR-P 6200）显影液

对于曝光的 CSAR 62 光刻胶膜的显影，通常通过浸没显影方式进行，显影时间约为 30-60 秒，显影液 AR 600-546、600-548 和 600-549 非常适合。

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适用于对碱液敏感衬底的显影液AR 300-35

在铝等碱敏感衬底上使用水溶性碱性显影液是有问题的，因为衬底在显影步骤中同样受到侵蚀。如果要在碱敏衬底上使用光刻胶，强烈建议使用显影液 AR 300-35。

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适用于铝衬底的碱性显影液

我们的一些客户通常会使用对碱液敏的铝衬底做光刻工艺。如果在此过程中为了使得铝衬底不被蚀刻，则可能会导致问题。我们的 MIF 显影液（AR 300-40 系列）和显影液 AR 300-26 都会强烈侵蚀铝表面，但如果使用显影液 AR 300-35，金属表面基本保持不变。

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显影液的老化失效

水溶性碱显影液由于会从空气中吸收 CO 2从而导致老化失效。在这方面，缓冲水碱性显影液（AR 300-26、-35）比含有 TMAH 的 AR 300-40 系列显影液更稳定。在这个系列中，TMAH 浓度的显影液最为敏感。

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