电子束光刻胶 AR-P 671系列

(AR-P 671.01、AR-P 671.02、AR-P 671.04、AR-P 671.05、AR-P 671.09)

PMMA电子束光刻胶系列50K-950K用于集成电路生产和掩膜版加工

产品特点

  • 感光波段:电子束,深紫外线(248 nm)
  • 对硅、石英和金属等衬底粘附性好
  • 用于平坦化和多层胶工艺
  • 高分辨率,高对比度
  • 不同相对分子质量的聚丙烯酸甲酯

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产品信息

膜厚/4000 rpm 0.03 µm
最佳分辨率 6 nm
对比度 7
闪电 28℃
6个月存储温度(°C) 10-22°C

包装规格

  • 1 x 100毫升(实验样品)
  • 1 x 250毫升
  • 1 x 1000毫升
  • 6 x 1000毫升
  • 如果您有其他要求,请随时联系我们!

实用案例

PMMA使用AR 600-56显影后的结构

不同剂量下50K/20K 双层胶剥离结构

随着剂量增加底切(under-cut)不断增加

定义:线曝光剂量以pC/cm表示,面曝光剂量单位为μC/cm²。

工艺参数

  • 衬底

    Si 4”晶圆

  • 前烘

    150 °C, 3 min, 热板

  • 曝光

    Raith Pioneer, 30 kV

  • 显影

    AR 600-56,60 s,21°C

  • 定影

    AR 600-60,30 s,21°C

旋涂曲线

顶部沟槽宽度:20 nm,图中测量值:底部沟槽宽度

光刻胶结构

使用PMMA在光刻下加工菲涅尔透镜结构

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