电子束光刻胶 AR-N 7500系列

(AR-N 7500.08,AR-N 7500.18)

高分辨率,工艺稳定好,适用于混合光刻工艺

产品特点

  • 感光波段:电子束,深紫外线,i-line,g-line
  • 中等灵敏度
  • 电子束和紫外波段310 – 450 nm的混合光刻过程工艺,视选用的波长显示为正胶或负胶
  • 高分辨率,工艺稳定性好(非化学放大胶)
  • 耐刻蚀性好,温度稳定性高达120°C
  • 酚醛清漆、萘醌、重氮化物,有机聚合物。
  • 更安全的溶剂:PGMEA

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产品信息

膜厚/4000 rpm 0.10 µm
最佳分辨率 40nm
对比度 5
闪电 42℃
6个月存储温度(°C) 10-18°C

包装规格

  • 1 x 100毫升(实验样品)
  • 1 x 250毫升
  • 1 x 1000毫升
  • 6 x 1000毫升
  • 如果您有其他要求,请随时联系我们!

实用案例

AR-N 7500.18:膜厚为400 nm,线条宽度70 nm

工艺参数

  • 衬底

    Si 4”晶圆

  • 前烘
    85 °C, 90 s, 热板
  • 曝光

    ZBA 21, 30 kV

  • 显影

    AR 300-47,4:1,60 s,22°C

旋涂曲线

光刻胶结构

AR-N 7500.18:直径为500 nm的圆柱体阵列结构

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