电子束光刻胶 AR-N 7520 new系列

(AR-N 7520.07 new,AR-N 7520.11 new,AR-N 7520.17 new)

适用于混合光刻的高分辨率和高灵敏度电子束负胶

产品特点

  • 感光波段:电子束,深紫外线,i-line(原产品SX AR-N 7520/4))
  • 直写时间短,对比度高
  • 电子束和紫外波段248-365 nm的混合光刻过程工艺,在紫外波段曝光为负胶
  • 高分辨率,非常稳定(非化学放大胶)
  • 耐刻蚀性好,温度稳定性高达140°C
  • 酚醛树脂、有机交联剂
  • 安全溶剂:PGMEA

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产品信息

膜厚/4000 rpm 0.10 µm
最佳分辨率 30nm
对比度 8
闪电 42℃
6个月存储温度(°C) 10-18°C

包装规格

  • 1 x 100毫升(实验样品)
  • 1 x 250毫升
  • 1 x 1000毫升
  • 6 x 1000毫升
  • 如果您有其他要求,请随时联系我们!

实用案例

AR-N 7520.07 new产品:30nm线条,胶厚为90 nm

工艺参数

  • 衬底

    Si 4”晶圆

  • 前烘
    85 °C, 90 s, 热板
  • 曝光

    Raith pioneer, 30 kV

  • 显影

    AR 300-47,60 s,22°C

旋涂曲线

光刻胶结构

AR-N 7520.17 new:400 /600nm线条结构,胶厚为400nm

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