电子束光刻胶 AR-N 7520系列

(AR-N 7520.073,AR-N 7520.18)

适用于混合光刻的高分辨率电子束光刻胶,适用于高分辨率应用场景

产品特点

  • 感光波段:电子束,深紫外线,i-line
  • 高对比度,高精度结构轮廓,出色的结构转移性能
  • 电子束和紫外波段248-365 nm的混合光刻工艺
  • 高分辨率,非常稳定(非化学放大胶)
  • 耐刻蚀性好,温度稳定性高达140°C
  • 酚醛树酯、有机交联剂
  • 安全溶剂:PGMEA

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产品信息

膜厚/4000 rpm 0.10 µm
最佳分辨率 28nm
对比度 10
闪电 42℃
6个月存储温度(°C) 10-18°C

包装规格

  • 定制产品,请联系我们确定规格
  • 如果您有其他要求,请随时联系我们!

实用案例

AR-N 7520.073曝光400nm线条

工艺参数

  • 衬底

    Si 4”晶圆

  • 前烘
    85 °C, 90 s, 热板
  • 曝光

    Raith pioneer, 30 kV

  • 显影

    AR 300-47,60 s,22°C

旋涂曲线

光刻胶结构

AR-N 7520.18:曝光具有高精度轮廓的1um线条结构,光刻胶厚度340nm, 1400uc/cm2,100kV

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