电子束光刻胶 SX AR-N 8200系列

(SX AR-N 8200.03,SX AR-N 8200.06, SX AR-N 8200.18)

实验样品/定制产品

产品特点

  • 感光波段:电子束,极紫外
  • 高分辨率电子束负胶(10 nm)
  • 提供多种膜厚的高稳定性电子束光刻胶
  • 与HSQ相当,但是工艺稳定性更好,更容易去除,保质期更长
  • 如果增加额外烘烤步骤,灵敏度会增加20倍
  • 溶解于丙二醇甲醚的倍半硅氧烷

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产品信息

膜厚/4000 rpm 50 nm
最佳分辨率 10nm
对比度 5
闪电 38℃
6个月存储温度(°C) 8-12°C

包装规格

  • 1 x 100毫升(实验样品)
  • 1 x 250毫升
  • 1 x 1000毫升
  • 6 x 1000毫升
  • 如果您有其他要求,请随时联系我们!

实用案例

SX AR-N 8200.03/1:11 nm线条结构

工艺参数

  • 衬底

    Si 4”晶圆

  • 前烘

    150 °C, 10min, 热板

  • 曝光

    Raith pioneer, 30 kV

  • 显影

    AR 300-44,90 s,23°C

旋涂曲线

光刻胶结构

SX AR-N 8200.06/1:直径为100 nm的圆柱体阵列结构

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