电子束光刻胶AR-P 617系列

(AR-P 617.03,AR-P 617.06, AR-P 617.08, AR-P 617.14)

用于纳米光刻的电子束光刻胶,极高分辨率、33%MA聚合物

产品特点

  • 感光波段:电子束,深紫外线(248 nm)
  • 极高分辨率、高对比度
  • 对硅、玻璃及金属等衬底粘附性好
  • 比PMMA灵敏度高3~4倍
  • 可通过前烘调整灵敏度
  • 适用于多层胶工艺,如双层lift-off、T-gate
  • 温度稳定性高达240 ℃
  • MMA和MA聚合物,安全溶剂:丙二醇甲醚

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产品信息

膜厚/4000 rpm 0.09 µm
最佳分辨率 10nm
对比度 6
闪电 38℃
6个月存储温度(°C) 10-18°C

包装规格

  • 1 x 100毫升(实验样品)
  • 1 x 250毫升
  • 1 x 1000毫升
  • 6 x 1000毫升
  • 如果您有其他要求,请随时联系我们!

实用案例

AR-P 617.03:150 nm线条贯穿200 nm氧化台阶

工艺参数

  • 衬底

    Si 4”晶圆

  • 前烘

    200 °C, 2 min, 热板

  • 曝光

    ZBA 21, 20 kV

  • 显影

    AR 600-50,2 min,21°C

旋涂曲线

光刻胶结构

PMMAcoMA/PMMA双层lift-off结构:AR-P 617.06/AR-P  679.06

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