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膜厚/4000 rpm | 1.25 µm |
最佳分辨率 | 6 nm |
对比度 | 7 |
闪电 | 28℃ |
6个月存储温度(°C) | 10-22°C |
PMMA使用AR 600-56显影后的结构
随着剂量增加底切(under-cut)不断增加
定义:线曝光剂量以pC/cm表示,面曝光剂量单位为μC/cm²。
顶部沟槽宽度:20 nm,图中测量值:底部沟槽宽度
使用PMMA在光刻下加工菲涅尔透镜结构
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