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产品特点
- 感光波段：电子束，深紫外线（248 nm）
- 对硅、石英和金属等衬底粘附性好
- 用于平坦化和多层胶工艺
- 高分辨率，高对比度
- 不同相对分子质量的聚丙烯酸甲酯
相关光刻百科
产品信息
AR-P 632.04
| 膜厚/4000 rpm | 1.25 µm |
| 最佳分辨率 | 6 nm |
| 对比度 | 7 |
| 闪电 | 28℃ |
| 6个月存储温度（°C） | 10-22°C |
包装规格
- 1 x 100毫升（实验样品）
- 1 x 250毫升
- 1 x 1000毫升
- 6 x 1000毫升
配套试剂
实用案例
PMMA使用AR 600-56显影后的结构
不同剂量下50K/20K 双层胶剥离结构
随着剂量增加底切（under-cut）不断增加
定义：线曝光剂量以pC/cm表示，面曝光剂量单位为μC/cm²。
工艺参数
旋涂曲线
顶部沟槽宽度：20 nm，图中测量值：底部沟槽宽度
光刻胶结构
使用PMMA在光刻下加工菲涅尔透镜结构
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