电子束光刻胶 AR-P 8100系列(phoenix 81)

(基于Phoenix 81 的聚合物,PPA热针尖光刻胶)

高对比度,可热探针直写集成电路和全息结构

产品特点

  • 感光波段:电子束,tSPL(热探针光刻)
  • 胶厚:20-160 nm
  • 高分辨率(<10 nm)和非常高的对比度
  • 非常稳定
  • 对>300nm光源不感光
  • 适合双层剥离工艺
  • 适合叠层图案加工
  • 用于灰度光刻和电子束光刻应用
  • 安全溶剂:苯甲醚

相关光刻百科

Phoenix 81 的基础聚合物 PPA 的相关信息

阴离子聚合聚甲醛 (PPA) 是热结构光刻胶 Phoenix 81 的基础聚合物,是一种白色粉末,在室温下可稳定储存至少 4 周。因此,PPA 可以通过标准运输方式运输,并且不需要高成本的冷藏运输。当储存在冰箱 (8 – 12 °C) 中时,PPA 聚合物可稳定保存至少 6 个月。对于长期储存,我们建议温度为 -18 °C,因为这可确保 PPA 至少保持稳定一年。聚合物 PPA 易溶于苯甲醚。通过改变聚合物浓度,可以灵活生产溶液以实现不同的膜厚值。此外,可以通过改变旋转速度来改变膜厚度。这以 AR-P 8100.03(固含量:2.5%)和 AR-P 8100.06(固含量:5.5%)为例在“属性 I”表中。下图显示了聚合物浓度和所得薄膜厚度之间的关系。关于 PPA(Phoenix 81 的基础聚合物)的信息 1. 为了制备 PPA 溶液,在加入计算量的苯甲醚之前,将称重的 PPA 放入合适的小瓶中。将混合物在室温下搅拌或振摇,直到约 10 分钟后得到澄清、均匀的溶液。2. 将 PPA 溶液转移到适当大小的注射器中,并使用 0.2 μm 注射器过滤器过滤到干燥清洁的瓶子中。2.5% 溶液的配方示例 2.5 g PPA + 97.5 g 苯甲醚 = 100.0 g 2.5% 0.2 μm 过滤聚合物溶液。这对应于关于属性的 AR-P 8100.03。请注意:产品名称中的 2.5 % 四舍五入至 3 %。储存 PPA 溶液仅在低温下稳定;因此,我们建议在 -18 °C 下储存。在这种情况下,溶液至少可以稳定 6 个月。使用前,应将溶液恢复至室温以避免水分凝结。在室温下短期使用 PPA 溶液(最多 3 小时)仍可确保高产品质量。PPA 溶液的制备和使用 薄膜厚度对固体含量的依赖性(苯甲醚中的阴离子 PPA,4000 rpm,30 s,开放式卡盘匀胶机)。

PPA溶液的制备和使用

1. 为了制备 PPA 溶液,在加入计算量的苯甲醚之前,将称重的 PPA 放入合适的小瓶中。将混合物在室温下搅拌或振摇,直到约 10 分钟后得到澄清、均匀的溶液。

2. 将 PPA 溶液转移到适当大小的注射器中,并使用 0.2 μm 注射器过滤器过滤到干燥清洁的瓶子中。2.5% 溶液的配方示例 2.5 g PPA + 97.5 g 苯甲醚 = 100.0 g 2.5% 0.2 μm 过滤聚合物溶液。这对应于关于属性表格中 AR-P 8100.03型号。请注意:产品名称中的 2.5 % 四舍五入至 3 %。

保存条件

PPA 溶液仅在低温下稳定;因此,我们建议在 -18 °C 下储存。在这种情况下,溶液至少可以稳定 6 个月。使用前,应将溶液恢复至室温以避免水分凝结。在室温下短期使用 PPA 溶液(最多 3 小时)仍可确保高产品质量。

产品信息

膜厚/4000 rpm 30nm
最佳分辨率 10nm
对比度 1-10
闪电 44℃
6个月存储温度(°C) -18°C

包装规格

用于配置 AR-P 8100.03 和 AR-P 8100.06:

  • 1 g PPA-聚合物
  • 1 套 PPA-聚合物 + 250ml AR 600-02 + 注射器 + 0.2um-PTFE过滤器
  • 如有进一步的要求,请联系我们沟通
  • 如果您有其他要求,请随时联系我们!

配套试剂

全部 12 /300-12 0 /300-26 0 /300-35 0 /300-44 0 /300-46 0 /300-47 0 /300-475 0 /300-70 0 /300-72 0 /300-73 0 /300-76 0 /300-80 0 /600-02 0 /600-07 0 /600-09 0 /600-50 0 /600-51 0 /600-546 0 /600-548 0 /600-549 0 /600-55 0 /600-56 0 /600-60 0 /600-61 0 /600-70 0 /600-71 0 /Allresist 0 /AR 300-12 0 /AR 300-26 0 /AR 300-44 0 /AR 300-46 0 /AR 300-47 0 /AR 300-72 0 /AR 300-73 0 /AR 300-76 0 /AR 300-80 5 /AR 400-47 0 /AR 600-01 0 /AR 600-02 1 /AR 600-07 0 /AR 600-09 0 /AR 600-50 0 /AR 600-51 0 /AR 600-546 0 /AR 600-548 0 /AR 600-549 0 /AR 600-55 0 /AR 600-56 0 /AR 600-60 0 /AR 600-61 0 /AR 600-71 0 /AR-BR 5400 0 /AR-N 2210 0 /AR-N 2220 0 /AR-N 2230 0 /AR-N 4200 0 /AR-N 4300 0 /AR-N 4400 0 /AR-N 4400-25 0 /AR-N 4400-50 0 /AR-N 4450 0 /AR-N 4600 0 /AR-N 7500 0 /AR-N 7520 0 /AR-N 7520 new 0 /AR-N 7700 0 /AR-N 7720 0 /AR-P 1200 0 /AR-P 3100 0 /AR-P 3200 0 /AR-P 3500 0 /AR-P 3500T 0 /AR-P 3700 0 /AR-P 3800 0 /AR-P 5300 0 /AR-P 5900 0 /AR-P 617 0 /AR-P 6200 0 /AR-P 631-671 0 /AR-P 632-672 0 /AR-P 639-679 0 /AR-P 6500 0 /AR-P 7400 0 /AR-P 8100 0 /AR-PC 500 0 /AR-PC 5000 0 /AR-U 4000 0 /BOE工艺 0 /CAR 0 /CSAR62 0 /DNQ 0 /HMD-S 0 /HMDS 8 /HSQ 0 /LOL 0 /LOR 0 /NEP 0 /NMP 0 /PMMA 0 /PPA 0 /SX AR-N 4340-7 0 /SX AR-N 7530-1 0 /SX AR-N 7730-1 0 /SX AR-N 8200-1 0 /SX AR-P 3500-6 0 /SX AR-P 3500-8 0 /SX AR-P 3740-4 0 /SX AR-PC 5000/41 0 /SX AR-PC 5000/80.2 0 /SX AR-PC 5000/82.7 0 /T-gate 0 /TMAH 0 /undercut 0 /UV固化 0 /X AR-N 7700/30 0 /X AR-P 3220/7 0 /X AR-P 5900/4 0 /X射线曝光 0 /三层胶体系 0 /三层胶系统 0 /二维材料 0 /交联 0 /交联剂 0 /保存 0 /保存条件 0 /保护胶 0 /充电效应 0 /光引发剂 0 /光敏物质 0 /刻蚀技术 0 /刻蚀稳定性 0 /刻蚀速率 0 /前烘 0 /剥离工艺 0 /剥离液 0 /剥离胶 0 /剥离胶底胶 0 /助粘 0 /化学刻蚀 0 /化学放大 0 /化学放大胶 0 /厚胶 0 /去胶剂 0 /去胶液 0 /去边珠 0 /双层lift-off 0 /双层剥离 0 /双层胶 0 /双层胶体系 0 /双层胶系统 0 /反应离子刻蚀 0 /同步辐射曝光 0 /喷涂 0 /喷涂胶 0 /喷淋式显影 0 /四甲基氢氧化铵 0 /图形反转胶 0 /增附 0 /增附剂 0 /增附处理 0 /存储 0 /定影 0 /定影液 0 /对比度 0 /导电胶 0 /寿命 0 /干法刻蚀 0 /干涉光刻 0 /庆祝 0 /底切 0 /底胶 0 /微纳3D结构 0 /打底胶 0 /投影式曝光 0 /抗刻蚀性 0 /接触式曝光 0 /接触角 0 /接近式曝光 0 /掩膜版制造 0 /搅拌式显影 0 /旋涂 0 /显影 0 /显影液 0 /暗腐蚀 0 /曝光剂量 0 /最佳分辨率 0 /材料转移 0 /极限分辨率 0 /染料 0 /欠烘烤 0 /正性光刻胶 0 /正胶 0 /正胶工艺 0 /残胶 0 /气泡 0 /氧等离子体 0 /氧等离子体去胶机 0 /水汽 0 /水溶性显影液 0 /泛曝光 0 /洗边胶 0 /浸没式显影 0 /浸没式曝光 0 /浸涂 0 /深紫外胶 0 /混合光刻 0 /清洗 0 /清零剂量 0 /温度 0 /温胶 0 /湿法刻蚀 0 /溶剂 0 /溶剂型显影液 0 /溶剂耐受性 0 /漂胶 0 /激光直写 0 /灰度光刻 0 /灰度曝光 0 /灵敏度 0 /热回流 0 /热探针光刻 0 /热稳定胶 0 /热针尖光刻 0 /物理轰击 0 /电子束光刻胶 0 /电子束正胶 0 /电子束负胶 0 /电导率 0 /疏水 0 /石墨烯 0 /硬烘烤 0 /碱性显影液 0 /稀释 0 /稀释剂 0 /稀释比 0 /稳定性 0 /空气湿度 0 /等离子刻蚀 0 /等离子清洗 0 /粘附性 0 /紫外光刻胶 0 /老化 0 /耐刻蚀 0 /耐有机溶剂 0 /耐酸碱 0 /耐酸腐蚀性 0 /耐高温 0 /联级显影 0 /聚合物 0 /聚酰亚胺 0 /聚酰亚胺胶 0 /荷电效应 0 /薄胶 0 /蚀刻 0 /衍射光学 0 /表面活性剂 0 /裂纹 0 /负胶 0 /超声清洗 0 /辊涂 0 /过烘烤 0 /酚醛树脂 0 /酚醛树脂电子束光刻胶 0 /酸化剂 0 /酸碱保护 0 /铝结构 0 /除胶剂 0 /除胶液 0 /非化学放大胶 0 /非金属离子显影液 0 /顶切 0 /驻波效应 0 /高分辨率 0 /高对比度 0 /高灵敏度 0 /黄光 0

紫外光刻胶AR-N 4400-50(CAR)

用于电镀、MEMS技术和 LIGA ≥50 μm 的紫外负胶厚胶
2022年3月21日/通过: lisongkun

紫外光刻胶AR-N 4400-25(CAR)

用于电镀、MEMS技术和 LIGA ≤ 20 μm 的紫外负胶厚胶
2022年3月21日/通过: lisongkun

紫外光刻胶AR-N 4400-10(CAR)

用于电镀、MEMS技术和 LIGA ≤ 20 μm 的紫外负胶厚胶
2022年3月21日/通过: lisongkun

紫外光刻胶AR-N 4400-05(CAR)

用于电镀、MEMS技术和 LIGA ≤ 20 μm 的紫外负胶厚胶
2022年3月18日/通过: lisongkun

紫外光刻胶AR-N 4340(CAR)

用于集成电路生产的高灵敏度紫外负胶
2022年3月18日/通过: lisongkun

紫外光刻胶AR-N 2220

适用于各种应用的即用型负性喷涂光刻胶
2022年3月18日/通过: lisongkun

紫外光刻胶AR-N 2210

适用于各种应用的即用型负性喷涂光刻胶
2022年3月18日/通过: lisongkun

电子束胶AR-N 7520 new

用于混合光刻的高分辨高灵敏度电子束光刻胶, 耐热温度高达140℃
2021年11月11日/通过: allresist_cn

电子束胶AR-N 7520

用于混合光刻的高分辨率电子束光刻胶, 适用于高轮廓精度应用,热稳定性高达140℃
2021年11月12日/通过: allresist_cn

电子束光刻胶SX AR-N 8250系列

实验样品/定制产品
2021年11月15日/通过: allresist_cn

电子束光刻胶AR-P 8100系列(Phoenix 81)

高对比度,可热探针直写集成电路和全息结构
2021年11月19日/通过: allresist_cn

电子束光刻胶AR-P 617系列

纳米光刻胶,最高分辨率,33%MA聚合物,溶剂丙二醇甲醚
2021年11月19日/通过: allresist_cn

实用案例

自显影后3D图形

工艺参数

  • 衬底

    Si 晶圆

  • 前烘
    90 °C, 3 min, 热板
  • 曝光

    NanoFrazor

旋涂曲线

光刻胶结构

距离为 20 nm 的 30 nm 金圆盘的等离子三聚体

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