发展历史

根源

Allresist技术诀窍的根源可以追溯到柏林的Fotochemische Werke(FCW)。尽管主要产品是X光胶片,但该公司还与科学院和柏林洪堡大学等研究伙伴合作生产了前RGW的微电子应用的光刻胶,直到1992年。
例如,FCW与这些合作伙伴一起在1980年代成功开发了首个用于电子束光刻的两层系统。这一发展激发了Matthias Schirmer的创造力,他当时是该项目的一名工作人员和积极参与者,现在是Allresist的常务董事。
1992年,为了在FCW生产光刻胶。为了保留世界一流的抗蚀剂技术知识并为自己和其他忠实的同事提供新的未来,Matthias和Brigitte Schirmer于1992年10月16日成立了Allresist GmbH。

发展历程

在头几年,被收购的GDR微电子客户获得了所需营业额的很大一部分。额外的收入来自密集的补贴支持的项目活动以及定制特定产品的专业化。由于杰出科学家的创新能力,到1999年,可销售的光刻胶的种类增加到14种。
为了适应不断增长的生产需求,Allresist在Strausberg进行了投资,并通过建造新的更大的光刻胶扩大了研究活动拥有自己财产的现代化设备。
该公司凭借可持续的商业模式在市场中处于有利地位,在过去五年中,其产品营业额翻了一番以上,并在2013年通过附件扩大了生产设施。2018年,我们再次扩展了公司建筑,并增加了450平方米的活动空间,将生产设施增加了150平方米。同时,在Strausberg,有14名员工生产的综合产品范围超过250种产品(光刻胶和电子束抗蚀剂以及相关的加工化学品)。

有远见的制造商

创始人Brigitte和Matthias Schirmer最初是Allresist的唯一股东。两位都曾担任过Fotochemische Werke的科学家,Matthias Schirmer是研究化学家,Brigitte Schirmer是生产工程师。
这家新成立的公司的经济基础来自重要的联合产品开发,1991年,无论是从实验室规模到工业生产规模,两个Schirmers都在仍然在FCW中进行了转换。
Schirmers与他们以前的同事一起共同建立了自己的公司。创新设计旨在满足客户的需求,并大力奉献人文主义的企业文化,Allresist实际上提供了“所有光刻胶”。员工定期接受培训并受到启发,他们被包括在流程和决策中,并被邀请积极参与。
同时,他们的女儿Ulrike Schirmer是股东,并参与了所有流程。在2024年,她将担任董事总经理,并与她的团队一起接班。

 

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