10. 电子束光刻胶在强酸下的抗腐蚀性有多高?

高浓度氧化性的酸(硫酸、硝酸、王水 1)、食人鱼液 2) ) 在室温下会侵蚀光刻胶,通常被用作难去除光刻胶结构的去胶液。

遇到这些试剂,酚醛树脂光刻胶很容易被去除掉, PMMA光刻胶则开始膨胀,然后缓慢去除。用去离子水对氧化酸进行适度稀释,可以减弱这种酸性溶液的侵蚀。相反,即使在高浓度的非氧化性酸(盐酸、氢氟酸)中光刻胶也可完好保存下来。

电子束光刻胶(AR-P 6xx(x)、AR-P/N 7000)在 95 °C 下烘烤25分钟后,在各种酸中保存时间参数如下:

50%硫酸:  2小时后无侵蚀(室温并加热至60°C)
96%硫酸: 15秒后胶膜溶解,除了PMMA保护涂层受到严重侵蚀并逐渐去除
20%盐酸: 2小时后无侵蚀(室温并加热至60°C)
37%浓盐酸: 没有观察到与胶膜的反应,只有AR-N 7500在10 分钟后出现粘附性问题(漂胶)
2%氢氟酸: 膜厚 < 2 µm 时胶层立即漂胶

关于在浓硫酸和氢氟酸中的稳定性测试中,光刻胶膜的后烘烤(PMMA 190 °C,酚醛树脂 150 °C)仅可带来光刻胶稳定性的微小的改善。

1)王水:盐酸和硝酸的混合物(3:1)
2) 食人鱼溶液:硫酸和过氧化氢(双氧水)的混合物 (1:1)

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