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就所使用的原材料而言，电子束光刻胶分为四种不同的类别：
- PMMA- 光刻胶 (AR-P 6xx(x)
- CSAR 62
- 酚醛树脂基电子束胶 (AR-N/P 7000)
- Electra 92导电胶
一般情况下，随着烘烤或工艺温度的升高，光刻胶膜的溶解性降低，从而导致去除问题越来越大。在高于 200 °C 的温度下烘烤后，光刻胶在大多数溶剂中呈惰性。只有除胶剂 AR 300-70、300-72 (NMP) 和AR 300-73（TMAH，碱性水溶液）仍会导致薄膜溶胀，并且在某些情况下能够去除胶层。
PMMA- 和苯乙烯丙烯酸酯光刻胶：
易溶于：丙酮、MEK、PMA（PGMEA）、NMP、氯苯、乙苯、苯甲醚、MIBK、乳酸乙酯
不溶于： 水、强碱、异丙醇、乙醇、壬烷等。
CSAR 62
易溶于：氯苯、乙苯、苯甲醚、MEK，难溶于：丙酮、MIBK、乳酸乙酯
不溶于：水、强碱性溶液、异丙醇、乙醇、壬烷等。
酚醛树脂胶：
易溶于：丙酮、MEK、PMA (PGMEA)、NMP、苯甲醚、MIBK、异丙醇、乙酸丁酯、乳酸乙酯、强酸
不溶于：水、乙苯、壬烷等。
Electra 92：
易溶于：水
不溶于：丙酮、MEK、PMA (PGMEA)、NMP、苯甲醚、MIBK、异丙醇、乙酸丁酯、氯苯、乙苯、 壬烷等。
所用溶剂及原料简称：
MEK：甲乙酮
PMA (= PGMEA)：1-甲氧基-2-丙基乙酸酯
NMP：N-甲基-2-吡咯烷酮
MIBK：甲基异丁基酮
TMAH：四甲基氢氧化铵
KOH：氢氧化钾
HF：氢氟酸
电子束胶FAQ概述：
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