11. 电子束光刻胶膜在溶剂中的耐受性有多高?

就所使用的原材料而言,电子束光刻胶分为四种不同的类别:

  • PMMA- 光刻胶 (AR-P 6xx(x)
  • CSAR 62
  • 酚醛树脂基电子束胶 (AR-N/P 7000)
  • Electra 92导电胶

一般情况下,随着烘烤或工艺温度的升高,光刻胶膜的溶解性降低,从而导致去除问题越来越大。在高于 200 °C 的温度下烘烤后,光刻胶在大多数溶剂中呈惰性。只有除胶剂 AR 300-70、300-72 (NMP) 和AR 300-73(TMAH,碱性水溶液)仍会导致薄膜溶胀,并且在某些情况下能够去除胶层。

PMMA- 和苯乙烯丙烯酸酯光刻胶:

易溶于:丙酮、MEK、PMA(PGMEA)、NMP、氯苯、乙苯、苯甲醚、MIBK、乳酸乙酯

不溶于: 水、强碱、异丙醇、乙醇、壬烷等。

CSAR 62

易溶于:氯苯、乙苯、苯甲醚、MEK,难溶于:丙酮、MIBK、乳酸乙酯

不溶于:水、强碱性溶液、异丙醇、乙醇、壬烷等。

酚醛树脂胶:

易溶于:丙酮、MEK、PMA (PGMEA)、NMP、苯甲醚、MIBK、异丙醇、乙酸丁酯、乳酸乙酯、强酸

不溶于:水、乙苯、壬烷等。

Electra 92

 易溶于:水

不溶于:丙酮、MEK、PMA (PGMEA)、NMP、苯甲醚、MIBK、异丙醇、乙酸丁酯、氯苯、乙苯、 壬烷等。

所用溶剂及原料简称:

MEK:甲乙酮

PMA (= PGMEA):1-甲氧基-2-丙基乙酸酯

NMP:N-甲基-2-吡咯烷酮

MIBK:甲基异丁基酮

TMAH:四甲基氢氧化铵

KOH:氢氧化钾

HF:氢氟酸

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