适用于铝衬底的碱性显影液

我们的一些客户通常会使用对碱液敏的铝衬底做光刻工艺。如果在此过程中为了使得铝衬底不被蚀刻,则可能会导致问题。我们的 MIF 显影液(AR 300-40 系列)和显影液 AR 300-26 都会强烈侵蚀铝表面,但如果使用显影液 AR 300-35,金属表面基本保持不变。很可能会在金属表面上形成钝化层,可靠地保护金属免受进一步腐蚀。铝箔在与 AR 300-35 接触数小时后基本保持不变,而相比之下,铝箔在 AR 300-47 中会迅速溶解。

此外,很明显,有浓缩显影液AR 300-35 的配置的显影液也可以用作去胶液。在高温工艺(例如溅射、离子蚀刻或离子注入)中应用之后,大量光刻胶很难在有机去胶液中去除或者不可能去除。然而,到目前为止,如果使用对碱敏感的衬底(例如铝),则只能在有限程度上使用有效的碱性去胶液。现在,更强的 AR 300-35 变体显示出与我们的基于 TMAH 的碱性去胶液 AR 300-73 相似的良好清洁效果,并且不会显着侵蚀铝表面。

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