光敏物质

我们的正性光刻胶的光敏成分属于萘醌二叠氮化物 (NQD) 组。向甲酚树脂(酚醛树脂)中添加 NQD 衍生物会引起化学反应,导致形成萘醌二叠氮酯,其碱溶解度降低了约两个数量级。暴露于小于 450nm 的短波长光会导致萘醌二叠氮酯发生化学分解并释放出氮(图1)。然后反应性卡宾中间体与水反应生成相应的茚羧酸衍生物(Süss 反应),由于酸度增加了 3 – 4 个数量级,该衍生物在碱性水溶液显影剂中溶解得更快。在吸收光谱中可以很容易地监测到茚羧酸的转化(图 2)。

图1 萘醌二叠胺酯转化为茚羧酸的示意图(Süss反应)

图 2:正性光刻胶暴露于短波长光后光吸收的改变

基本化学概述:

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