聚酰亚胺双层胶系统

在某些特定的应用中,最好保持聚合物的原始特性不变,例如不添加光敏感物质,例如用作水分传感器。

在这种情况下,纯聚酰亚胺光刻胶(SX AR-P 5000/80)的图案可以使用类似于AR-P 5400 / AR-P 3500的双层胶系统。

对于这个应用程序,其工艺流程如下:

表1:双层聚酰亚胺系统工艺参数

该体系的两种光刻胶可以进行涂胶,没有任何问题。曝光后,光刻胶和聚酰亚胺可采用一步显影工艺来完成。如果要去除上层多余的光刻胶层可以很容易地通过泛光曝光和使用较弱显影液的额外显影步骤来实现。

图1:除去上层光刻胶后的纯聚酰亚胺的结构,薄膜厚度为600 nm

其他光刻胶概述:

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