光刻胶膜的稳定/硬化

在面对用户各种各样的应用需要时,我们往往需要结构化的光刻胶结构具有较好的稳定性,因为我们可以利用随后的硬化步骤后,这种结构可以实现对有机溶剂的长期稳定性。基于酚醛树脂的光刻胶在 > 150 °C 的温度下烘烤数小时后,对甲苯、丙酮、IPA、PMA 或 NEP 等有机溶剂表现出相当大的稳定性。在 CAR 光刻胶的情况下,稳定性还得到强烈的泛曝光的支持。

现在以 AR-P 7400.23 为例证明,通过强烈的泛光暴露和随后在 110 °C 下的硬烘烤已经可以实现对甲苯足够高的稳定性,而在泛光暴露之外在 150 °C 的硬烘烤是对乙醇稳定所必需的工艺。在这种情况下,稳定性会增强,以至于结构在乙醇中也能稳定几个小时。

工艺步骤概述:

点击数:18